日本联手英特尔，发力EUV

美国芯片制造商英特尔和日本国家研究机构将在日本建立一个尖端半导体制造技术研发中心，以促进日本具有优势的芯片制造设备和材料产业的发展。

新设施将在三到五年内建成，将配备极紫外光刻 (EUV) 设备。设备制造商和材料公司将支付一定费用以使用该设施进行原型设计和测试。这将是日本首个业内成员能够共同使用 EUV 设备的中心。

日本经济产业省下属的国家先进工业科学和技术研究所 (AIST) 将负责运营该设施，而英特尔将提供使用 EUV 技术制造芯片的专业知识。该中心的总投资预计将达到数亿美元。

EUV 是 5 纳米及以下半导体制造的一项关键技术。这个数字指的是芯片上晶体管之间的纳米数（十亿分之一米）。这个数字越小，芯片上可以容纳的晶体管就越多，从而提高计算能力。

每台 EUV 设备的成本超过 400 亿日元（2.73 亿美元），材料和设备供应商很难独自进行这项投资。

目前，这些公司使用比利时 Imec 等海外研究机构的 EUV 设备来开发产品。在日本，旨在量产尖端半导体的Rapidus计划于 12 月引进 EUV 设备进行生产，但日本的研究机构迄今为止还没有这样的设备。

随着中美战略竞争的加剧，华盛顿加强了对华 EUV 相关出口限制，包括设备和材料。这使得将国外研究机构的研究数据带回日本的过程更加耗时，因为美国会对其进行检查。如果国内研究机构能够提供 EUV 设备，这一障碍将会降低。

荷兰ASML控股公司在EUV光刻设备制造领域占据主导地位，但芯片生产需要经过600多道工序，相关设备和材料的研发至关重要。

日本企业中，Lasertec 占据 EUV 相关检测设备市场的 100%，而 JSR 等则在用于制造电路的感光材料方面具有优势。英特尔希望通过新研究中心加深与这些材料和设备供应商的关系。