俄罗斯研发新工具可替代光刻机

ASML作为全球最大的光刻机制造商，一直以来都凭借其先进的技术和高质量的产品享有盛誉。然而，近日消息传出，俄罗斯正在研发一种新的工具，可以替代光刻机，这对于ASML来说是个意外之喜，也意味着光刻机行业可能将面临颠覆性的变革。

 光刻机作为制造芯片不可或缺的工具，扮演着重要的角色。ASML公司作为全球最大的光刻机制造商，其产品的生产过程涉及到众多的零部件和供应商，需要全球化的支持才能实现量产。然而，光刻机的制造并非易事，它包含复杂的光学系统和多个工艺环节，需要高精度的透镜和光学元件，并且在制造过程中需要控制好各个环节的工艺和质量参数。

 在面对国际制裁的情况下，俄罗斯决定东山再起，自主研发光刻机。据消息透露，圣彼得堡理工大学的研究人员已经取得了重要的突破，成功开发出了可替代传统光刻机的国产光刻复合体。这一技术突破摆脱了传统光刻工艺对于掩膜版的依赖，通过软件控制实现自动化的图像转移，大幅降低了时间和费用成本。虽然俄罗斯目前还没有实现成品的生产制造，但这一理念的开创将为俄罗斯光刻机产业的崛起奠定基础。

 据开发人员称，传统光刻技术需要使用专门的掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制，可实现完全自动化，随后的另外一台设备可直接用于形成纳米结构，但也可以制作硅膜，例如用于舰载超压传感器。

 在这之前，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布开始朝这个方向展开工作，所以有上述成功产生并不意外。俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构发豪语，宣称俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜，在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机，还可击败ASML同类产品。